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含氟含铵蚀刻废水的处理方法与流程

文章出处:未知  责任编辑:admin  人气:   发表时间:2020-04-21  【

在半导体制造业中,细微尺寸图案的制定是借助蚀刻技术以形成积体电路的器件架构,而蚀刻技术中的湿法蚀刻是利用一些特定化学试剂将待蚀刻薄膜部分分解,转化为可溶性化合物进入水相而达到蚀刻目的。正如利用氢氟酸为主要蚀刻液,选择性腐蚀硅片上薄膜,氟化铵作为缓冲剂保持蚀刻率与氢氟酸依比例混合使用,同时为提高润湿性还加入了一些有机类添加剂或表面活性剂。待蚀刻完成后会有大量蚀刻废水产生,此废水中含有氟硅酸、氟化铵与有机物等,若未经处理直接排放,则会对水体环境造成损害,甚至于危害地下水及饮用水源,进而影响人类健康。

与其他含氟废水处置类似,一般是通过沉淀法将水相中氟以沉淀物进行固定,但随之面临的是污泥量巨大,二次处置成本较高。尤其,诸如此类成分复杂的蚀刻废水,如何实现合理有效地处置是行业内时刻关注的重点。如专利公开号CN 106517244 A中通过除杂将含氟蚀刻废液制备氟化氢铵,但其直接使用氨水中和除杂,过程中可能会出现氨味溢出难以控制的情况;再如专利公开号CN 104843818 A中使用一种螯合树脂吸附除氟,但树脂价格昂贵,且使用后还需再生处理,从经济角度一般仅适用于低氟废水处理。

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